來賓雙堿法（fǎ）脫硫塔-雙堿法脫硫塔工作原理（lǐ）

雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收液進行煙（yān）氣脫硫，然（rán）後再（zài）用石灰粉再生脫硫液，由於整個反應過程是液（yè）氣相之間進行，避（bì）免了係統結垢問題，而且脫硫速率高、液（yè）氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成（chéng）本（běn）低，適用於鍋爐（lú）煙氣、焦（jiāo）爐氣、鍋爐生產廢氣等的脫硫。

一、工藝特點

1、以NaOH(Na2CO3)脫硫，材料普通，資源豐（fēng）富，投資成（chéng）本低（dī）；脫硫液中（zhōng）主要為NaOH(Na2CO3)水溶液，在循環過程中緩解水泵、管（guǎn）道、設備腐蝕、衝刷及堵塞，便於（yú）設備運行和維護。

2、鈉基吸收液對SO2反應速度快（kuài），故有較小的液氣（qì）比，達到較高的脫硫效率，一般≥90%。

3、脫硫劑（jì）可被循環使用，它的再生及脫硫沉澱均發生於塔體，避免塔內堵塞和磨損，降低了運行成本。

4、以空塔噴淋為脫硫塔結構，運行可靠（kào）性高，事故發生率小，塔阻力低，△P≤600Pa。

二、工藝原理

1、工藝介紹

雙堿法脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫，將NaOH（燒堿、火堿）和Ca(OH)2（熟石灰、消石灰（huī））攪拌均勻（yún）後做成溶液打入脫硫塔，該堿性溶液霧化後與含硫煙氣充分反應，從而脫除煙（yān）氣中的SO2。脫硫（liú）產物經脫硫劑再（zài）生池被Ca(OH)2還原成NaOH，可再（zài）次（cì）循環使用。

2、工藝原理

含硫煙氣經除塵後，由引風機正壓吹入噴（pēn）淋脫硫塔內。在噴淋塔內（nèi）設置霧化係統，在該（gāi）區段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑（jìng）為100～300μｍ的霧化液滴，煙氣中SO2與吸收堿液再次反應，脫除90%以上的二氧化硫。

脫硫後的液體落入脫硫塔底部，定時定期排入脫硫塔後設置的（de）收（shōu）集係統（tǒng），適當補充一定量（liàng）的堿液後，經循環泵再次送入（rù）噴霧和配液係統中被再次利用（yòng），脫硫劑一直處於循環狀態。

經多次循環後的脫硫漿液（yè）排入後處理係統（tǒng）。由於設計的特（tè）殊（shū）性，經（jīng）脫硫後的煙氣通過（guò）塔頂除霧器時，將煙氣中的液滴分（fèn）離出來，達到同時除塵除霧的效果，潔淨煙氣終達標排放。

三、工藝優勢

1、煙氣係統

煙氣經煙道引風機直接進入脫硫（liú）塔，脫硫塔以空塔噴（pēn）淋結構，設計空速小（4.0m/s），塔壓力降小（≤600Pa）。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣於一體，煙氣升至（zhì）塔頂進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出現故障時，脫硫暫停（tíng）反應，煙氣可通過煙囪排（pái）入大氣。

2、脫硫塔SO2吸收係統

煙氣進入脫硫塔（tǎ）向上升起，與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌，脫硫塔采用噴（pēn）嘴式空塔噴淋，將溶劑霧化無數液滴（dī），讓氣液充分接（jiē）觸吸收SO2。氣液相（xiàng）接觸麵（miàn）積越大，兩相傳質熱反應，效率越高（gāo）。

脫硫塔內（nèi）堿液霧化吸收SO2及粉塵，生成Na2SO3，同時消耗了（le）NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入（rù）再生池與Ca(OH) 2反應，再生出鈉離子並補入Na2SO3（或NaOH），經循環脫硫（liú）泵打入脫硫循環吸收SO2。

脫硫塔頂部裝（zhuāng）有除霧（wù）器，經除霧器折流板碰衝作用，煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離。

3、脫（tuō）硫產物處理（lǐ）

脫硫產物是石膏漿，具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥（ní）漿泵從沉澱池排（pái）出處（chù）理好，經自然（rán）蒸發晾幹。由於石膏漿（jiāng）中含有固體雜質，影響石（shí）膏的質（zhì）量，所以一般以拋（pāo）棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器，稠厚器增濃提固後，再排至渣場處（chù）理。

4、關於二次汙染的解決

雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使（shǐ）用。有少量的Na2SO4不能（néng）夠再生被帶入石膏漿（jiāng）液（yè）中，經固液分離，分離的固體殘渣進行回收堆放再做他用。溶液流回（huí）再生池（chí）繼續使用，因此不會產生二次汙染（rǎn）。

5、吸收SO2效率及主要（yào）影響因素

PH值：PH值高，SO2吸收速率大，脫硫效率高，同時PH值高，結垢幾率小，避免吸收劑表麵純化。

溫度：溫（wēn）度低有利於氣液傳質，溶解SO2，但溫度低影響反應速（sù）度，所以脫硫劑的溫度不（bú）是一個獨立的不變因素，取決於進（jìn）氣的煙氣（qì）溫度（dù）。

石灰粒度及純度：要求石（shí）灰（huī）純度≥95%，粒度控製Pc200~300目內。

液漿濃度：控製在10~15%。