發布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:117548
雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫,然(rán)後(hòu)再用石灰粉(fěn)再生脫硫液,由於整個反應過程是液氣相之間進行,避免了係統(tǒng)結垢問題,而且脫(tuō)硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省(shěng)、運行成本(běn)低,適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋(guō)爐生產廢氣等(děng)的脫硫。
一、工藝特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富,投資(zī)成本低;脫硫液中主要(yào)為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過程中緩解(jiě)水泵、管道、設備腐蝕、衝刷及堵塞,便於設備運行和維護。
2、鈉基吸收液對SO2反應速度快,故有(yǒu)較小(xiǎo)的(de)液氣比(bǐ),達到(dào)較(jiào)高的脫硫效率(lǜ),一般≥90%。
3、脫硫劑可被循環使用,它的再生及脫硫沉澱均(jun1)發生於(yú)塔體,避免塔內堵塞和磨損,降低了運行成本。
4、以空塔噴淋為脫硫塔結構(gòu),運行可靠性高,事故發生率小,塔(tǎ)阻力低,△P≤600Pa。
二、工(gōng)藝原理
1、工藝介紹
雙堿法脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫,將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌均勻後做成溶液打入脫硫塔,該堿性溶液霧化後(hòu)與含硫煙氣(qì)充分反應(yīng),從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物(wù)經脫硫(liú)劑再生(shēng)池被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環使用。
2、工藝(yì)原理
含硫煙(yān)氣經除塵後,由引(yǐn)風機正壓吹入噴淋脫硫塔內。在噴淋塔內設置霧化係統,在該區段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑(jìng)為100~300μm的霧化液滴,煙氣中SO2與吸收堿液再次反應,脫除(chú)90%以上(shàng)的二氧化硫。
脫硫後的液體落入脫硫塔底部(bù),定時定期排入脫硫塔後設(shè)置的收集係統,適當補充一定量的堿液後,經循環泵再次送入(rù)噴霧和(hé)配(pèi)液係統中被再次利用,脫硫劑一直處於循環狀態。
經多次循環後的脫硫漿液排入後處理係統。由(yóu)於設計的特殊性,經脫(tuō)硫後的煙(yān)氣通過塔頂除霧器時,將煙氣中的液滴分離出來,達到(dào)同時除塵除霧的效(xiào)果,潔淨煙氣終達(dá)標排放。

三、工藝優勢
1、煙氣係統
煙氣經(jīng)煙道引風機直接進入脫硫塔,脫硫塔以空塔噴淋結構(gòu),設計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣於一體,煙氣升至(zhì)塔頂進入煙囪排(pái)入(rù)大氣。當脫硫泵出現故障時,脫硫(liú)暫停反應,煙氣可通過煙囪排入大氣。
2、脫硫塔SO2吸收係統(tǒng)
煙氣進入脫硫塔向(xiàng)上(shàng)升起,與向下噴(pēn)淋的脫硫(liú)塔以逆流式洗滌,脫(tuō)硫塔采用噴嘴式空塔噴淋,將溶劑霧化無數液滴,讓氣液充分接觸吸收SO2。氣液相接觸麵積越(yuè)大,兩相傳質熱反應,效率越高。
脫硫塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵,生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反(fǎn)應,再生出鈉離子並補入Na2SO3(或NaOH),經循環脫硫泵(bèng)打入脫硫循環(huán)吸收SO2。
脫硫塔頂部裝有除霧器,經除霧器(qì)折流(liú)板碰衝作用,煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離。
3、脫硫產物處理
脫硫產物是石(shí)膏漿,具體(tǐ)為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化(huà)的Na2SO4及粉塵。由潛(qián)水泥漿泵(bèng)從沉澱池排出處理好,經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含有固體雜質,影響石膏的質量,所以一般以拋棄法為高。排出沉澱池漿液可(kě)經水力旋流器,稠厚器增濃(nóng)提固後,再排(pái)至渣場處理。
4、關於二次汙染的解決
雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能(néng)夠再生(shēng)被(bèi)帶入石膏漿液中,經(jīng)固液分離,分離的固體殘渣進行回收堆放再做他用。溶(róng)液流回再生池(chí)繼續使用,因此不會產(chǎn)生(shēng)二次汙染。
5、吸收SO2效率及主要影響(xiǎng)因素
PH值:PH值高,SO2吸收速(sù)率大(dà),脫硫效率高,同時PH值高,結垢幾率小,避免吸收劑表麵純化。
溫(wēn)度:溫度低有利於氣(qì)液(yè)傳質,溶解SO2,但(dàn)溫度低影響(xiǎng)反應速度,所以脫硫(liú)劑的溫度不是一個獨立的不變因素,取決於進氣的煙氣溫度。
石灰粒度及純度:要求石灰純度≥95%,粒度控製Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。