林芝雙堿（jiǎn）法（fǎ）脫硫塔-雙堿（jiǎn）法（fǎ）脫硫塔工作原理

雙（shuāng）堿法脫硫工藝（yì）是先用鈉堿性吸收液（yè）進行煙氣脫硫，然後（hòu）再用石灰粉再生脫硫液，由於整（zhěng）個反應過程是液氣相之間進行，避免了係統結垢問題，而且脫硫（liú）速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低（dī），適用於鍋（guō）爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等的脫硫。

一、工藝（yì）特點

1、以NaOH(Na2CO3)脫硫，材料普通，資（zī）源豐富，投資成本低；脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液，在循環過程中緩解水泵、管道、設備腐（fǔ）蝕、衝刷及堵塞（sāi），便於設備運行和維護。

2、鈉基吸收液對SO2反應速度快，故有較小的液（yè）氣比，達到較高的脫硫效率，一般≥90%。

3、脫硫劑可被循環使用，它（tā）的再生及脫硫沉澱均發生於塔體，避免塔內堵塞和磨損，降低了運（yùn）行成本。

4、以（yǐ）空塔噴淋為脫硫塔結（jié）構，運行可（kě）靠性高，事故（gù）發生率小，塔阻（zǔ）力低，△P≤600Pa。

二、工藝原理（lǐ）

1、工藝介紹

雙堿法脫硫係統采用鈉基（jī）脫硫劑進行脫（tuō）硫，將NaOH（燒堿、火（huǒ）堿）和Ca(OH)2（熟（shú）石灰、消石灰）攪拌均勻後做成溶液打入脫硫（liú）塔，該堿性（xìng）溶液霧化後與含硫煙氣充分反應，從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH，可再次循環使用。

2、工藝原理

含硫煙氣經（jīng）除塵（chén）後，由引（yǐn）風機正壓吹入噴淋脫硫塔內。在噴淋塔內設置霧化係統（tǒng），在該區段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100～300μｍ的霧化液滴（dī），煙（yān）氣中SO2與吸收堿液再次反應，脫（tuō）除90%以上的二氧（yǎng）化硫。

脫（tuō）硫（liú）後的液體落入（rù）脫硫塔底部，定時定期排入脫硫塔後設置的（de）收集係統，適當補充一（yī）定量的堿液後，經循環泵再次送入噴霧和配（pèi）液係統中被再（zài）次利用（yòng），脫硫（liú）劑一直處於循環狀態。

經多次（cì）循環後的脫硫漿液排入後處理係統。由於設計的特殊性，經脫硫後的煙氣通（tōng）過塔頂除霧器時，將煙氣（qì）中（zhōng）的液滴分離出來，達到同時除塵除霧的效果，潔淨煙氣終達標排放。

三、工藝優勢

1、煙氣係統

煙氣經煙道引風機直接進入（rù）脫硫塔，脫（tuō）硫塔以空塔噴淋結構，設計空速小（4.0m/s），塔壓力降小（≤600Pa）。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣（qì）於一體，煙氣升至塔頂進入煙囪排入大氣。當脫（tuō）硫泵出現故障時，脫（tuō）硫暫停反應，煙氣（qì）可通過煙囪排入大氣。

2、脫硫塔SO2吸收係統

煙氣進（jìn）入脫硫塔向上升起，與向下（xià）噴淋的脫硫塔以（yǐ）逆流式洗滌，脫硫塔采用噴嘴式空塔噴淋，將溶劑霧化無數液滴，讓氣液（yè）充分（fèn）接觸吸收SO2。氣（qì）液相接觸麵積越大，兩相傳（chuán）質熱反應，效（xiào）率越高。

脫硫塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵（chén），生成Na2SO3，同時消耗了（le）NaOH和Na2SO3。脫硫液（yè）排出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應，再生出鈉離子並補入Na2SO3（或NaOH），經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收（shōu）SO2。

脫硫塔頂部裝有除霧器，經除霧（wù）器折流板碰衝作用，煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固（gù）體顆粒被除霧器（qì）捕獲分離。

3、脫硫產物處理

脫硫產物是石膏漿，具體為CaSO3、CaSO4還有部（bù）分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥（ní）漿泵從沉澱池排（pái）出處理好，經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含有固體雜質，影響石膏的質量，所以一般以拋棄法為高。排（pái）出沉澱池漿液可經水力旋流器，稠（chóu）厚器增濃提（tí）固後，再排至渣場處理。

4、關於二次汙染的（de）解決

雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生（shēng）出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再（zài）生被帶入石膏漿液（yè）中，經固（gù）液分離，分離（lí）的固體殘渣進行回收堆放再做他用（yòng）。溶（róng）液流回再生池（chí）繼續使用，因此不會產生二次汙染。

5、吸收SO2效率及主要影響因素

PH值：PH值高，SO2吸收速率大，脫硫效率高，同時PH值（zhí）高，結垢幾率小，避免吸收劑表麵（miàn）純化。

溫度：溫（wēn）度低有利（lì）於氣液傳質，溶解SO2，但溫度低影響（xiǎng）反應速度，所以脫硫劑的溫度不是一個獨立的不變因素，取決於進氣的煙氣溫度。

石灰粒度及純度：要（yào）求石灰純度≥95%，粒度控製Pc200~300目內。

液漿濃度：控製在10~15%。