發布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:117567
雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿性(xìng)吸收液進行煙氣脫硫,然後再用(yòng)石灰粉再生脫硫液,由於整(zhěng)個反(fǎn)應過(guò)程(chéng)是液氣相之間進行(háng),避免了係統結垢問題,而且脫(tuō)硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投(tóu)資費用省、運行成本低,適用於鍋爐(lú)煙氣、焦爐氣、鍋(guō)爐生產廢氣(qì)等的脫硫(liú)。
一、工藝(yì)特點
1、以(yǐ)NaOH(Na2CO3)脫硫,材料(liào)普通,資源豐富,投資成本低;脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循(xún)環過程中緩解水泵、管道(dào)、設備腐蝕、衝刷及堵(dǔ)塞,便於設備運行和維護。
2、鈉基吸收液對SO2反應速(sù)度快,故有(yǒu)較小(xiǎo)的液氣比,達到較高的脫硫效率,一般≥90%。
3、脫硫劑可被循環(huán)使用,它的(de)再生及脫硫沉澱均發生於塔體,避免塔內堵塞和磨損,降(jiàng)低了運行成本。
4、以空(kōng)塔噴淋為脫硫塔結構,運行可靠(kào)性高(gāo),事故(gù)發生率小,塔(tǎ)阻力低,△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工藝(yì)介紹(shào)
雙堿法脫硫係(xì)統采用鈉基脫硫劑進行脫硫,將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌均勻後做成溶液打入脫硫塔,該堿性溶液霧(wù)化後與含硫煙氣充分反應,從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環使用。
2、工(gōng)藝(yì)原(yuán)理
含(hán)硫煙氣經除塵後,由引風機正壓吹入噴淋脫硫塔內。在噴淋(lín)塔內設置霧化係統,在該區段空間充滿(mǎn)著由霧化器噴出的粒徑為100~300μm的霧化液滴,煙氣中SO2與吸收堿(jiǎn)液再次反(fǎn)應,脫除90%以上的二氧化硫。
脫硫後的(de)液體落入脫硫塔底部,定時定期排入脫硫塔後設置的收集係統(tǒng),適當補充一定量的堿液後,經循環泵再次(cì)送入噴(pēn)霧和配液係統中被再次利用,脫硫劑一直處於循(xún)環狀態。
經多次循環後的脫硫漿(jiāng)液排入後處理係(xì)統。由(yóu)於設計的特殊性,經脫硫後的煙(yān)氣通過塔頂除霧器時,將煙氣中的液滴分離出來(lái),達到同時除塵除霧的效果,潔(jié)淨煙氣終達標(biāo)排放(fàng)。

三、工藝優勢(shì)
1、煙氣係統
煙氣經煙道引風機直接進入脫硫塔(tǎ),脫(tuō)硫塔以空(kōng)塔噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣於一體,煙氣升至塔頂進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出現故障時,脫硫暫停反應,煙氣可通過煙囪排入大氣。
2、脫硫塔SO2吸收(shōu)係統
煙氣進(jìn)入脫硫塔向上升起,與向下噴淋的(de)脫硫塔以逆流式洗滌,脫硫塔采用噴嘴式空塔噴(pēn)淋,將溶劑霧化無數液滴,讓氣液充分接(jiē)觸吸收SO2。氣(qì)液相接觸麵積越大,兩相傳質熱反(fǎn)應,效率越高。
脫硫塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵,生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排(pái)出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應(yīng),再生出鈉離子並補入Na2SO3(或NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔頂部裝有(yǒu)除霧器(qì),經除霧器(qì)折流板碰衝作(zuò)用,煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲(huò)分離。
3、脫硫產物(wù)處理
脫硫產物是石膏漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥漿泵從沉澱池排出處理好,經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含(hán)有固體(tǐ)雜質,影響石膏的(de)質量,所以一般以拋棄法(fǎ)為高。排出沉澱池漿(jiāng)液可經水(shuǐ)力旋流器,稠厚器增濃提固後,再排(pái)至渣場(chǎng)處理。
4、關於二次汙染的解決
雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再(zài)生被帶(dài)入石膏漿液中,經固液分離,分離的固體殘渣進行(háng)回收堆放再做他用。溶液流回再生池繼續使用,因此不會產(chǎn)生二次汙染。
5、吸收SO2效率及主要影響因素
PH值:PH值高,SO2吸收速率大,脫硫效率高(gāo),同時PH值高,結垢幾(jǐ)率小,避免吸收劑表麵純化。
溫度(dù):溫度低有利於氣液傳質,溶解SO2,但溫度低影響反應速度,所以脫硫劑的溫(wēn)度不是一個獨(dú)立的不變因素,取決於進氣的煙氣溫度。
石灰粒(lì)度及純度:要(yào)求石灰純度(dù)≥95%,粒度(dù)控製Pc200~300目內(nèi)。
液漿濃度:控製在10~15%。