發布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:117600
雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收(shōu)液進行煙氣脫硫,然後再用石灰粉再生脫硫液,由於整個反應過程是液氣相之間進行,避免了係統結垢問題(tí),而且脫硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低,適用於鍋爐煙氣、焦爐(lú)氣、鍋爐生產廢氣等的脫硫。
一、工藝特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源(yuán)豐富,投資成本低;脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液(yè),在循環過程中緩解水泵、管道、設備腐蝕、衝刷及堵(dǔ)塞,便於設備運行和維(wéi)護。
2、鈉基(jī)吸收液(yè)對SO2反應速度快,故有較小的液氣比,達(dá)到較高的脫硫效率,一般≥90%。
3、脫(tuō)硫劑可被循環使用,它的再生及脫硫沉澱均發生於塔體,避免塔內堵塞和磨損,降低了運行成本。
4、以空塔噴淋為脫硫(liú)塔結構,運行可靠性高,事故發生率小,塔阻力低,△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工藝介紹
雙堿法脫硫係(xì)統采(cǎi)用鈉基脫(tuō)硫劑進行脫硫,將(jiāng)NaOH(燒堿、火(huǒ)堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石(shí)灰)攪拌均勻後做(zuò)成溶液打入脫硫塔,該堿(jiǎn)性溶液霧化後(hòu)與含硫煙氣充分反應,從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環使用(yòng)。
2、工藝原(yuán)理
含(hán)硫煙氣經除塵後,由引風機正壓吹入噴(pēn)淋脫(tuō)硫塔內。在噴淋塔內設置霧化係統,在(zài)該區段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100~300μm的霧化液滴,煙氣中SO2與吸收堿液再次反應,脫除(chú)90%以上的二氧化硫。
脫硫後的液體落入脫硫塔底部,定時定期排入(rù)脫硫塔後設置的(de)收集係統,適(shì)當補充一定量的堿液後,經(jīng)循環泵再次送入噴霧和配液(yè)係統中被再次利用,脫硫劑一直處於循(xún)環狀態。
經(jīng)多次循環後的脫硫漿液排入後處理係統。由於設計的特殊性,經脫(tuō)硫後的(de)煙氣通過(guò)塔頂除霧器時,將(jiāng)煙氣中的液滴分離出來,達到同時除(chú)塵除霧的效果,潔淨煙氣(qì)終達(dá)標排放。

三、工藝優勢
1、煙氣係(xì)統
煙氣經(jīng)煙(yān)道引(yǐn)風機直接進入脫硫塔,脫硫塔以空塔噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫硫(liú)集中除塵、脫硫、排煙氣於一體,煙氣升至塔頂進入煙囪(cōng)排入大氣(qì)。當脫硫(liú)泵(bèng)出現故障時,脫(tuō)硫暫停反應,煙氣可通過煙囪排入大氣。
2、脫硫塔(tǎ)SO2吸收係統
煙(yān)氣(qì)進(jìn)入脫硫塔向上升起,與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌,脫硫塔采用噴(pēn)嘴式空塔噴淋,將溶劑霧化無(wú)數液滴,讓氣液充分接觸吸收SO2。氣液相接觸麵積越大,兩相傳質熱反應,效率越高(gāo)。
脫(tuō)硫塔內(nèi)堿液霧化吸收(shōu)SO2及粉塵,生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外(wài)進(jìn)入再生池與Ca(OH) 2反應,再生(shēng)出鈉(nà)離子(zǐ)並補入Na2SO3(或NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔頂部裝有除(chú)霧(wù)器(qì),經除霧器折流板碰衝作用,煙氣攜帶的煙塵和其他水(shuǐ)滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離(lí)。
3、脫硫(liú)產物處理
脫硫產物是石(shí)膏漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由(yóu)潛水泥漿泵從沉澱池排出(chū)處理好,經自然蒸發晾(liàng)幹。由於(yú)石膏漿中含有固體雜質(zhì),影響石膏的質量,所(suǒ)以一般以拋棄法為高。排出沉(chén)澱池漿液可經水力旋流器,稠厚器(qì)增(zēng)濃提固後,再(zài)排至渣場處理。
4、關於二次汙(wū)染的解決
雙堿法是以鈉堿吸(xī)收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠(gòu)再生被帶入石膏漿液中,經固液分離,分離的固體殘渣(zhā)進行回收堆放再做他用。溶液流回再生池繼續使用,因此不會產生二次汙染。
5、吸收SO2效率及(jí)主要(yào)影響因素
PH值:PH值高,SO2吸收速率大,脫硫效(xiào)率高,同時PH值高,結(jié)垢(gòu)幾率小,避(bì)免吸收劑表麵純化。
溫度:溫度低有利於氣液傳質(zhì),溶解SO2,但溫度低影響反應速(sù)度,所以(yǐ)脫硫劑的溫度不是一個獨立的不變因(yīn)素,取決於進氣的煙氣溫度。
石灰粒度(dù)及純度:要求石(shí)灰純度≥95%,粒度控製Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。