慶陽雙堿法（fǎ）脫硫塔-雙堿法脫硫塔工作原理

雙（shuāng）堿法（fǎ）脫硫工藝是先用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫，然後再用石灰粉再生脫硫液，由於整個（gè）反應過程是液氣相之間進行（háng），避免了係（xì）統（tǒng）結垢問題，而且脫（tuō）硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低，適用於（yú）鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等的（de）脫硫。

一、工藝特點

1、以NaOH(Na2CO3)脫硫，材料普通，資源豐富，投資成本低；脫（tuō）硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液，在循環過程中緩解水泵、管道、設備腐（fǔ）蝕、衝刷及堵塞，便於設備運行和維護。

2、鈉基吸收液對SO2反應速度快，故有較小的液氣比，達到較高的脫硫效率，一般≥90%。

3、脫硫劑可被循環使用，它的（de）再生及脫硫（liú）沉澱均（jun1）發生於塔體，避（bì）免塔內堵塞和磨損，降低（dī）了運行成本。

4、以空塔噴淋為脫硫塔結構，運行可靠性高，事故發生率小，塔阻力低，△P≤600Pa。

二、工藝原理

1、工藝介紹

雙堿法脫硫係統（tǒng）采用鈉基脫硫（liú）劑進（jìn）行脫硫，將NaOH（燒堿、火堿）和Ca(OH)2（熟石灰（huī）、消石灰）攪（jiǎo）拌均勻後做成溶液打入脫硫塔，該堿性溶液霧化後與含硫煙氣充分反應，從而脫除煙（yān）氣中的SO2。脫硫產物經脫（tuō）硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH，可再次循環使用。

2、工藝（yì）原理

含（hán）硫（liú）煙氣經除塵後，由引風機正壓吹入噴（pēn）淋脫硫塔內。在噴淋塔內設（shè）置霧化係統，在該區段空間充滿著由霧（wù）化器噴出（chū）的粒徑為100～300μｍ的霧化液（yè）滴，煙氣中SO2與吸收堿液再次反應，脫除（chú）90%以上的二氧化硫。

脫硫後的（de）液體落入脫硫塔（tǎ）底部（bù），定時定（dìng）期排入脫硫塔後設置（zhì）的收（shōu）集係（xì）統，適當（dāng）補充一定量的堿（jiǎn）液後，經循環泵再次送入噴霧和配液係統中被再次利用，脫硫劑一直處於循環狀態。

經多次循環後的脫硫漿液排入後處（chù）理係統。由於（yú）設計的特殊性，經脫（tuō）硫後的煙氣通過塔頂除霧器時，將煙氣中的液滴分離（lí）出來，達到同時（shí）除塵除霧的效果，潔淨煙氣終達標排放。

三、工（gōng）藝優勢

1、煙氣係統

煙氣經煙道引風機直接進入脫硫塔（tǎ），脫硫塔以（yǐ）空塔噴淋結構，設計空速（sù）小（4.0m/s），塔壓力降小（≤600Pa）。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣於一體，煙氣升至塔頂進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出現故障時，脫硫暫停反應，煙（yān）氣可通過煙囪排入大氣。

2、脫硫塔SO2吸收係統

煙氣進入脫硫塔向上升（shēng）起，與向下噴淋的（de）脫硫塔（tǎ）以逆流（liú）式洗滌（dí），脫硫塔采用噴（pēn）嘴式空塔噴淋，將（jiāng）溶劑霧化無數液滴，讓氣液充分接觸吸收SO2。氣液相接觸麵積越大，兩相傳質熱反應，效（xiào）率越高。

脫硫（liú）塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵（chén），生成Na2SO3，同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出（chū）塔外進入（rù）再生池與Ca(OH) 2反（fǎn）應，再生出鈉離子並補入Na2SO3（或NaOH），經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收（shōu）SO2。

脫硫塔頂部裝有除霧器，經除霧器折流板碰衝作用，煙氣攜帶的煙塵（chén）和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕（bǔ）獲分離。

3、脫硫產物處理

脫硫產物是石膏漿，具體為CaSO3、CaSO4還有部（bù）分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛（qián）水泥漿泵從沉澱池排出處理好，經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含有固體雜質，影（yǐng）響石膏的質量，所以一般以拋棄法為高。排出沉（chén）澱池漿液可（kě）經水力旋（xuán）流器，稠厚器增濃提固後，再排（pái）至渣場處理。

4、關（guān）於二次汙染的解決

雙堿法是（shì）以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能（néng）夠再生被帶入石膏（gāo）漿液中（zhōng），經固液分離，分離的固體殘渣進行回收堆放再做他用。溶液流回再生池繼續使用，因此不會產生二次汙染。

5、吸收SO2效率及主要影響因素

PH值：PH值高，SO2吸收速率大，脫硫效（xiào）率高（gāo），同時（shí）PH值高，結垢幾率小，避免吸收劑表麵純化。

溫度：溫度低有利於氣（qì）液傳質，溶解SO2，但溫度低影響反應速度，所以脫硫劑（jì）的溫度不是一個獨立的不（bú）變因素，取決於進氣的煙氣溫（wēn）度。

石灰粒度及純度：要（yào）求石灰（huī）純度（dù）≥95%，粒（lì）度控製Pc200~300目內。

液漿濃度：控製在10~15%。